常见问题
FAQ



单排结构
双排结构

优势
  • ITO电极结构简单，可以手动刻蚀
  • 旋涂工艺只需擦除一侧的活性层
  • 可以使用简单的3M夹进行测试
  • 整体尺寸比较小，常见15x15mm
  • 上下电极十字交叉，可以精准控制重叠面积，无需光掩模
  • 顶电极底部可做ITO孤岛增加电极可靠度，即使长期用探针在同一位置也能保持良好的电接触
  • 双排结构可以增加单片样品中电池的总数量
  • 较容易实现盖片封装
劣势
  • 上下电极重叠面积会存在批次误差
  • 顶电极探针接触下方没有ITO，多次使用容易造成接触不良
  • ITO电极结构比较复杂，需要定制
  • 旋涂工艺需要擦除多侧的活性层，避空探针电极位置，制备步骤略复杂
  • 无法使用3M夹测试，需使用探针夹具
单排结构
不同样品的有效面积会有一定的差异，用光掩模可以通过约束照射面，减少样品的差异因素。
光掩模的好处是可以保证每个样品的受光区域相同，但是受光面区域并不一定精确的等于光掩模开口面积，这是因为光源的光线不是绝对平行的，掩模和活性层之间有1~2mm玻璃厚度的距离。

双排结构：3x3 mm
(方案一：两侧电极)

双排结构：3x3 mm
(方案二：四周电极)